宁波四氟化碳 嘉兴

电子级四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘等方面被广泛应用。我院具备年产200吨CF4的生产能力，生产工艺及设备均处于国内ling 先地位，且以生产5N规格的产品为主。稳定销往韩国、闽台等地区。
产品特性：
四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。
黎明化工研究设计院有限责任公司前身为黎明化工研究院，始建于1965年，主要从事化工新材料和化学及其原材料的研究开发。为航空航天事业、*建设和经济发展做出了贡献。
黎明化工研究设计院有限责任公司是家重点**企业和省创新型企业，现有职工830余人，其中业技术人员约占54% 。公司总占地约45万平方米，建筑面积约17万平方米.
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